特許

J-GLOBAL ID：200903065588355900

フッ素含有排水の処理方法及び装置

発明者： 立木 悦二 ,  家田 智之
出願人/特許権者： 松下環境空調エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 岡田 英彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-069170
公開番号（公開出願番号）：特開2003-266083
出願日： 2002年03月13日
公開日（公表日）： 2003年09月24日
要約：

【要約】【課題】CaF2の純度の高いCaF2含有ケーキを得ることができる、フッ素含有排水の処理技術を提供する。【解決手段】フッ素含有排水の処理方法を、少なくとも、より高濃度のフッ素含有排水にカルシウム化合物を添加して得られる反応液のpHを10を超え12.5以下に維持し、所定濃度にフッ素成分を残存させるように反応させる第1の反応工程と、第1の反応工程によって得られる反応液中の少なくとも残存フッ素成分とより低濃度のフッ素含有排水との混合物にカルシウム化合物を添加して得られる反応液のpHを10を超え12.5以下に維持し、前記第1の工程より低い所定濃度にフッ素成分を残存させるように反応させる第2の反応工程、とを含む反応工程を実施するようにする。この排水処理方法よれば、最終的に固液分離を経て得られる固形分におけるCaF2含有量を増大させることができる。このため、高純度のCaF2を得ることができる。

請求項（抜粋）：

フッ素含有排水の処理方法であって、少なくとも、以下の反応工程:フッ素含有排水にカルシウム化合物を添加して得られる反応液のpHを10を超え12.5以下に維持し、所定濃度にフッ素成分を残存させるように反応させる第1の反応工程と、第1の反応工程によって得られる反応液中の少なくとも残存フッ素成分にカルシウム化合物を添加して得られる反応液のpHを10を超え12.5以下に維持し、前記第1の反応工程より低い所定濃度にフッ素成分を残存させるように反応させる第2の反応工程、とを備える、方法。

IPC (3件)：

C02F 1/58 ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/52

FI (3件)：

C02F 1/58 M ,  C02F 1/20 B ,  C02F 1/52 J

Fターム (17件)：

4D015BA19 ,  4D015BB05 ,  4D015CA20 ,  4D015DB01 ,  4D015EA31 ,  4D037AA13 ,  4D037AB12 ,  4D037BA23 ,  4D037BB05 ,  4D037CA08 ,  4D037CA14 ,  4D038AA08 ,  4D038AB41 ,  4D038BA04 ,  4D038BA06 ,  4D038BB13 ,  4D038BB18

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平4-358594
  
• フッ素含有排水の処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-166309   出願人：川崎製鉄株式会社