プラズマ処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：浅井章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-048460
公開番号（公開出願番号）：特開平10-233294
出願日： 1997年02月17日
公開日（公表日）： 1998年09月02日
要約：

【要約】【課題】電界強度分布の均一性を向上させることができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】マイクロ波発生器60にて発生したマイクロ波を導波管62,64内に伝搬させて、被処理体Wにプラズマ処理を施す処理容器内へ導入するようにしたプラズマ処理装置において、前記導波管に、これに伝搬する前記マイクロ波から特定の振動モードのマイクロ波成分を除去するためのモードフィルタ手段65を設けるように構成する。これにより、モードフィルタ手段にて不要な振動モードのマイクロ波成分を除去し、処理容器内における電界強度分布の均一化を図る。

請求項（抜粋）：

マイクロ波発生器にて発生したマイクロ波を導波管内に伝搬させて、被処理体にプラズマ処理を施す処理容器内へ導入するようにしたプラズマ処理装置において、前記導波管に、これに伝搬する前記マイクロ波から特定の振動モードのマイクロ波成分を除去するためのモードフィルタを設けるように構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (6件)：

H05H 1/46 , C23C 16/50 , C23F 4/00 , H01L 21/205 , H01L 21/31 , H01P 1/16

FI (6件)：

H05H 1/46 B , C23C 16/50 , C23F 4/00 D , H01L 21/205 , H01L 21/31 C , H01P 1/16

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開平4-196317
プラズマ処理方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-257993 出願人：株式会社日立製作所
特開平3-020460

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