特許

J-GLOBAL ID：200903065656060530

反射防止膜

発明者： 大谷 実 ,  安藤 謙二 ,  鈴木 康之 ,  枇榔 竜二 ,  金沢 秀宏
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-163225
公開番号（公開出願番号）：特開2000-352604
出願日： 1999年06月10日
公開日（公表日）： 2000年12月19日
要約：

【要約】【課題】 酸化物膜のみを用いて耐環境性に優れた反射防止膜を実現する。【解決手段】 基板10上に、Al2 O3 を含む高屈折率層HとSiO2 を含む低屈折率層Lからなる交互多層膜20を積層する。基板10側から奇数層21、23、25、27が高屈折率層Hであり、偶数層22、24、26、28が低屈折率層Lである。波長193nmと波長248nmの光に対する低屈折率層Lの屈折率ns1、ns2と高屈折率層Hの屈折率na1、na2が以下の範囲であり、第6〜第8層の光学的膜厚をそれぞれ設計中心波長λ0 の約1/4に設定する。 1.51≦ns1≦1.571.68≦na1≦1.851.45≦ns2≦1.511.64≦na2≦1.79

請求項（抜粋）：

Al2 O3 を含む高屈折率層とSiO2 を含む低屈折率層からなる8層構造の交互多層膜を有し、波長193nmの光に対する前記低屈折率層の屈折率ns1と前記高屈折率層の屈折率na1がそれぞれ以下の式で表わされる範囲であり、1. 51≦ns1≦1. 571. 68≦na1≦1. 85波長248nmの光に対する前記低屈折率層の屈折率ns2と前記高屈折率層の屈折率na2がそれぞれ以下の式で表わされる範囲であって、1. 45≦ns2≦1. 511. 64≦na2≦1.79基板側から順に第1、第3、第5、第7層が前記高屈折率層、第2、第4、第6、第8層が前記低屈折率層であり、かつ、前記第6層、前記第7層および前記第8層の光学的膜厚がそれぞれ設計中心波長λ0 の約1/4であることを特徴とする反射防止膜。

Fターム (5件)：

2K009AA09 ,  2K009BB01 ,  2K009BB02 ,  2K009CC03 ,  2K009DD04

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 反射防止膜及びそれを施した光学系
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-093534   出願人：キヤノン株式会社