特許

J-GLOBAL ID：200903004672641307

反射防止膜及びそれを施した光学系

発明者： 大谷 実 ,  安藤 謙二 ,  鈴木 康之 ,  枇榔 竜二 ,  金沢 秀宏
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-093534
公開番号（公開出願番号）：特開平9-258006
出願日： 1996年03月22日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：

【要約】【課題】 波長190nm〜250nmの紫外光域で良好な反射防止特性を有し、半導体デバイスの製造装置に好適な反射防止膜及びそれを施した光学系を得ること。【解決手段】 透明な基板上に該基板側から空気側へ順にAl2 O3 を含む高屈折率層とSiO2 を含む低屈折率層を設け、波長190nmから波長250nmまでの光に対する該低屈折率層と該高屈折率層及び該基板の屈折率をそれぞれns,na,nとした場合、1.45≦ns≦1.651.60≦na≦1.85n≦nsを満足すること。

請求項（抜粋）：

透明な基板上に該基板側から空気側へ順にAl2O3 を含む高屈折率層とSiO2 を含む低屈折率層を設け、波長190nmから波長250nmまでの光に対する該低屈折率層と該高屈折率層及び該基板の屈折率をそれぞれns,na,nとした場合、1.45≦ns≦1.651.60≦na≦1.85n≦nsを満足することを特徴とする反射防止膜。

IPC (2件)：

G02B 1/11 ,  B32B 7/02 103

FI (2件)：

G02B 1/10 A ,  B32B 7/02 103

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 2波長反射防止膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-337945   出願人：キヤノン株式会社
• 反射防止膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-011749   出願人：キヤノン株式会社
• 特開平1-138501
  
• 特開昭60-032001