特許
J-GLOBAL ID:200903065665220656

投影露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山川 政樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-192986
公開番号(公開出願番号):特開平9-043851
出願日: 1995年07月28日
公開日(公表日): 1997年02月14日
要約:
【要約】【課題】 開口数の増大や、露光光源の短波長化の限界による光を用いた縮小投影露光の微細化限界を越えて、投影レンズの開口数を大きくすることなく、より微細な間隔のラインアンドスペースパタンを結像できるようにすることを目的とする。【解決手段】 この発明では、パタン103自ら発する放射光線群109を用い、これを投影レンズ104に導いて、基板105上にそれら光によるパタン103の像を結像させる。
請求項(抜粋):
原図基板上に形成された原図パタンを被露光基板上に投影露光する投影露光装置において、光を発するパタンから構成された原図パタンが形成された原図基板と、前記パタンから発せられる光を被露光基板に投影する投影光学系とを備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (4件):
G03F 7/20 521 ,  G03F 1/00 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (4件):
G03F 7/20 521 ,  G03F 1/00 Z ,  G03F 1/08 Z ,  H01L 21/30 502 P
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 特開平2-303019
  • 特開昭62-081713
  • 露光装置とパターン形成方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-007148   出願人:株式会社東芝
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