特許

J-GLOBAL ID：200903065668608019

枚葉式の熱処理装置

発明者： 荒見 淳一 ,  八木 宏憲 ,  青木 一二
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン東北株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-219669
公開番号（公開出願番号）：特開平9-050965
出願日： 1995年08月04日
公開日（公表日）： 1997年02月18日
要約：

【要約】【目的】 載置台の裏面側へ処理ガスが回り込むことを防止することができる枚葉式の熱処理装置を提供する。【構成】 断熱性支柱30の上に支持された載置台28に載置した被処理体Wを、その下方の加熱ランプ40により間接加熱して熱処理を行なう枚葉式の熱処理装置において、前記載置台の裏面の周縁部に、この載置台の裏面に処理ガスが回り込むことを防止するためのガス侵入阻止部材86を設けるように構成する。これにより、裏面側に侵入してきた処理ガスは、阻止部材の表面に成膜が付着することにより消費されることになる。

請求項（抜粋）：

断熱性支柱の上に支持された載置台に載置した被処理体を、その下方の加熱ランプにより間接加熱して熱処理を行なう枚葉式の熱処理装置において、前記載置台の裏面の周縁部に、この載置台の裏面に処理ガスが回り込むことを防止するためのガス侵入阻止部材を設けるように構成したことを特徴とする枚葉式の熱処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/44

FI (2件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/44 J

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開平4-343418
  
• 熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-132595   出願人：東京エレクトロン株式会社
• CVD装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-129206   出願人：アネルバ株式会社

審査官引用 (3件)

• 特開平4-343418
  
• 熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-132595   出願人：東京エレクトロン株式会社
• CVD装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-129206   出願人：アネルバ株式会社