特許
J-GLOBAL ID:200903065674135505
プラズマディスプレイパネルの製造方法および転写フィルム
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-335806
公開番号(公開出願番号):特開2005-258398
出願日: 2004年11月19日
公開日(公表日): 2005年09月22日
要約:
【課題】 作業性に優れ、かつパターン形状に優れたPDPの構成要素(例えば、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリックス)を好適に形成することができるPDPの製造方法および転写フィルムを提供すること。【解決手段】 基板上に無機粉体含有樹脂層を形成し、当該無機粉体含有樹脂層上に特定の光開始剤を含有するレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光処理して、レジストパターンの潜像を形成し、当該レジスト膜を現像処理してレジストパターンを顕在化させ、無機粉体含有樹脂層をエッチング処理してレジストパターンに対応する無機粉体含有樹脂層のパターンを形成し、当該パターンを焼成処理する工程を含む方法により、無機パターンを有するパネル材料を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法と、上記レジスト膜と無機粉体含有樹脂層を有する転写フィルムを提供する。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
基板上に無機粉体含有樹脂層を形成し、当該無機粉体含有樹脂層上に、下記式(1)および下記式(2)で表される化合物から選ばれる少なくとも一種を含有するレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光処理して、レジストパターンの潜像を形成し、当該レジスト膜を現像処理してレジストパターンを顕在化させ、無機粉体含有樹脂層をエッチング処理してレジストパターンに対応する無機粉体含有樹脂層のパターンを形成し、当該パターンを焼成処理する工程を含む方法により、無機パターンを有するパネル材料を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
IPC (8件):
G03F7/11
, G02B5/20
, G03F7/004
, G03F7/031
, G03F7/40
, H01J9/02
, H01J9/227
, H01J11/02
FI (9件):
G03F7/11 503
, G02B5/20 101
, G03F7/004 512
, G03F7/031
, G03F7/40 501
, G03F7/40 521
, H01J9/02 F
, H01J9/227 E
, H01J11/02 B
Fターム (54件):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AB11
, 2H025AB13
, 2H025AB14
, 2H025AB20
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC13
, 2H025BC42
, 2H025CA03
, 2H025CA07
, 2H025CA28
, 2H025CC08
, 2H025CC20
, 2H025DA24
, 2H025DA40
, 2H025FA29
, 2H025FA39
, 2H048BA02
, 2H048BA45
, 2H048BA48
, 2H048BB01
, 2H048BB02
, 2H048BB14
, 2H048BB41
, 2H096AA27
, 2H096AA30
, 2H096BA05
, 2H096CA20
, 2H096EA02
, 2H096HA01
, 2H096HA23
, 2H096JA04
, 5C027AA01
, 5C027AA05
, 5C027AA09
, 5C028FF06
, 5C040FA01
, 5C040FA04
, 5C040GB03
, 5C040GC19
, 5C040GD09
, 5C040GF19
, 5C040GG09
, 5C040GH03
, 5C040GH07
, 5C040JA09
, 5C040JA19
, 5C040KA14
, 5C040KA16
, 5C040MA23
, 5C040MA26
引用特許: