特許
J-GLOBAL ID：200903065699072605

スルフィド、スルフォキシド、スルフォンまたはスルフォネート基からなる結合基を介して結合しているリガンドを有する樹脂の調製法

発明者：
バートン,シモン シー

バートン,シモン シー について

, 
ハーディング,デイヴィッド アール エイチ

ハーディング,デイヴィッド アール エイチ について


出願人/特許権者：
マッシー ユニヴァーシティー

マッシー ユニヴァーシティー について


代理人 (1件)： 柳田 征史 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-525110
公開番号（公開出願番号）：特表2000-502951
出願日： 1997年01月10日
公開日（公表日）： 2000年03月14日
要約：
【要約】標的化合物と結合することができるリガンドであって、スルフィド、スルフォキシド、スルフォンまたはスルフォネート反応性基からなる結合基を介して支持マトリックスに共有結合しているリガンドを有する支持マトリックスを含むクロマトグラフィー樹脂の調製法を開示する。特に、開示方法においては、フリーラジカル条件下において、エチレン系不飽和反応性基を有する支持マトリックスをチオール基またはビスルファイト塩と接触させる。チオール基を用いた反応の場合には、必要に応じてスルフィドをスルフォンまたはスルフォキシドに酸化する。
請求項（抜粋）：
標的化合物と結合することができ、スルフィド、スルフォキシドまたはスル フォン反応性基からなる結合基を介してマトリックスに共有結合しているリガ ンドを有する支持マトリックスを含むクロマトグラフィー樹脂の調製方法であ って、 (a)エチレン系不飽和反応性基が結合している支持マトリックスを生成し、 (b)該マトリックスに共有-SR結合を形成するのに十分なフリーラジカル 条件下において、上記のマトリックス(a)を構造式R-SHで表される反 応性チオール化合物と反応させ(ここで、Rは標的化合物と結合することが できるリガンド)、さらに、 (c)必要に応じて、該スルフィド結合を酸化してスルフォキシドまたはスル フォンとする ことからなる方法。
IPC (3件)：
B01J 20/26 ,  B01D 15/08 ,  G01N 30/48
FI (5件)：
B01J 20/26 L ,  B01D 15/08 ,  G01N 30/48 H ,  G01N 30/48 L ,  G01N 30/48 E
引用特許：
審査官引用 (2件)
引用文献：
審査官引用 (1件)

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