特許
J-GLOBAL ID:200903065728679344
ナノ結晶金属
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石田 敬 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-512603
公開番号(公開出願番号):特表平8-503522
出願日: 1993年11月26日
公開日(公表日): 1996年04月16日
要約:
【要約】ナノ結晶材料、特に平均粒径が約11nm未満のナノ結晶ニッケル、および粒径が約100nm未満のNiFeCr合金およびNiFeCrMn合金のような三元および四元のニッケル・鉄合金の製造方法を記載。ナノ結晶ニッケルは、水性酸性電解質セル内でパルス式DC電流を流すことによりカソード上に電着される。三元および四元のニッケル・鉄合金およびそのたの二元、三元、四元合金はDC電気メッキまたはパルス式DC電気メッキによって製造される。セル電解質はサッカリン等の応力緩和剤の添加により粒径の制御を補助することもできる。本発明の新規な生成物は、耐摩耗性被覆、水素貯蔵材料、磁性材料、および水素放出用触媒として用途がある。
請求項(抜粋):
基材上に所定金属材料をナノ結晶状態で電着する方法であって、下記の工程: (a)アノードとカソードとを有する電解セルを準備する工程、 (b)該電解セル内に、該所定金属材料のイオンを含有する水性電解質を導入する工程、 (c)該電解質を約15°から約75°Cまでの範囲の温度に維持する工程、および (d)該アノードと該カソードとの間に、約0.1〜約5ミリ秒の範囲内の期間中は流れるが約1〜約500ミリ秒の範囲内の期間中は流れないパルス間隔で、ピーク電流密度が約0.1〜約3.0A/cm2の範囲内にあるDC電流を流すことにより、該所定金属材料をナノ結晶状態で該カソード上に堆積させる工程を含む電着方法。
IPC (6件):
C25D 5/18
, C25D 3/04
, C25D 3/12
, C25D 3/20
, C25D 3/38
, C25D 3/56
引用特許:
審査官引用 (20件)
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特公平3-029874
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特公平1-043839
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特表平6-504583
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特開平2-190493
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特開平2-030790
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特開平2-051995
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特開昭62-037391
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特公昭61-054879
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特開昭59-025995
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特開昭62-070595
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特公昭62-056240
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コバルト・ニッケル・燐合金磁性膜及びその磁気記録媒体並びにその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-040784
出願人:東北特殊鋼株式会社, 株式会社共和電化
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特公平2-060240
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特開昭62-151592
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特公平3-023638
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特公平4-040436
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特開平2-070085
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特開昭58-167791
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特公昭50-002377
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特開昭49-122829
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