特許
J-GLOBAL ID：200903065751109130

薄膜形成装置及び薄膜形成方法

発明者：
前田 菊男

前田 菊男 について


出願人/特許権者：
コニカミノルタホールディングス株式会社

コニカミノルタホールディングス株式会社 について


代理人 (1件)： 荒船 博司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-211278
公開番号（公開出願番号）：特開2006-028609
出願日： 2004年07月20日
公開日（公表日）： 2006年02月02日
要約：
【課題】 薄手の基材に対するヤラレを防止して、薄手の基材であっても安定した薄膜形成を可能とする。【解決手段】 この薄膜形成装置には、互いの放電面が対向されて放電空間を形成するように配置された一対の電極と、基材を支持する支持体とが備えられている。また、薄膜形成装置には、基材が放電空間内で一対の電極のうち、少なくとも一方の電極に沿うように、支持体を電極に密着させて保持する保持機構と、薄膜形成ガスを含有するガスが高周波電界によって活性化されるように前記放電空間に前記ガスを供給し、活性化された前記ガスで前記基材を晒すことで基材の表面上に薄膜を形成するためのガス供給部とが備えられている。そして、基材及び支持体は、再剥離性を有する粘着剤によって密着している。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
互いの放電面が対向されて放電空間を形成するように配置され、前記放電空間内に高周波電界を発生させる一対の電極と、 基材を支持する支持体と、 前記基材が前記放電空間内で前記一対の電極のうち、少なくとも一方の電極に沿うように、前記支持体を前記電極に密着させて保持する保持機構と、 薄膜形成ガスを含有するガスが高周波電界によって活性化されるように前記放電空間に前記ガスを供給し、活性化された前記ガスで前記基材を晒すことで、前記基材の表面上に薄膜を形成するためのガス供給部とを備え、 記基材及び前記支持体は、再剥離性を有する粘着剤によって密着していることを特徴とする薄膜形成装置。
IPC (5件)：
C23C 16/505 ,  B05D 3/04 ,  C23C 16/455 ,  C23C 16/458 ,  H05H 1/24
FI (5件)：
C23C16/505 ,  B05D3/04 C ,  C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  H05H1/24
Fターム (18件)：
4D075BB24Z ,  4D075BB49Y ,  4D075BB57Y ,  4D075BB93Y ,  4D075DA06 ,  4D075DC22 ,  4K030EA04 ,  4K030EA05 ,  4K030EA06 ,  4K030EA11 ,  4K030FA01 ,  4K030GA00 ,  4K030GA01 ,  4K030GA14 ,  4K030JA09 ,  4K030JA14 ,  4K030JA18 ,  4K030KA18
引用特許：
出願人引用 (1件)

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