特許
J-GLOBAL ID：200903065805181761
リソグラフィ処理のためのレーザスペクトルエンジニアリング
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
熊倉 禎男
, 大塚 文昭
, 今城 俊夫
, 西島 孝喜
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-516804
公開番号（公開出願番号）：特表2004-537176
出願日： 2002年07月11日
公開日（公表日）： 2004年12月09日
要約：
レーザ、特に出力ビームの帯域幅を制御する技術を提供する。放電レーザの帯域幅制御のための本出願人がスペクトルエンジニアリングと称する集積回路リソグラフィ技術。好ましい方法においては、コンピュータモデルを使用してリソグラフィパラメータをモデリングし、所望のリソグラフィの結果を得るために必要とされる所望のレーザスペクトルを判断する。次に、高速応答同調機構を使用して、パルスバースト内のレーザパルスの中心波長を調節し、所望のレーザスペクトルを近似するパルスバーストに対する積分スペクトルを得る。レーザビーム帯域幅は、フォトレジストフィルムでのパターン解像度を改善させるために、少なくとも2つのスペクトルピークを有する効果的なビームスペクトルを生成するように制御される。ラインナローイング機器が設けられ、それは、少なくとも1つの圧電駆動装置と、約2.0ミリ秒よりも短い時間応答を有する高速帯域幅検出制御システムとを有する。好ましい実施形態においては、レーザの繰返し率と同位相の毎秒500ディザを上回るディザ速度で波長同調ミラーがディザリングされる。1つの場合においては、圧電駆動装置は、方形波信号で駆動され、第2の場合においては、正弦波信号で駆動される。別の実施形態においては、一連のパルスに対して、2つのピークを有する所望の平均スペクトルを生成するために、最大変位がレーザパルスと一対一ベースで照合される。他の好ましい実施形態は、3つの別々のピークを有するスペクトルを生成する3つの別々の波長同調位置を利用する。
請求項（抜粋）：
ラインナロードガス放電レーザを利用してリソグラフィ照射を準備する方法であって、
A.所望のリソグラフィ結果を生成するのに必要な所望のレーザスペクトルを判断するために、コンピュータプログラムを用いてリソグラフィパラメータをモデリングする段階と、
B.該所望のレーザスペクトルを近似する、パルスバーストに対する積分スペクトルを得るために、該パルスバーストのレーザパルスの中心波長を調節する高速応答同調機構を利用する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
IPC (3件)：
H01S3/137
, G03F7/20
, H01L21/027
H01S3/137
, G03F7/20 521
, H01L21/30 515B
5F046CA03
, 5F046CA07
, 5F046DA01
, 5F172AD06
, 5F172CC06
, 5F172EE22
, 5F172NN24
, 5F172NP04
, 5F172NQ10
, 5F172NQ13
, 5F172NQ17
, 5F172ZA01
, 5F172ZA02
, 5F172ZZ02
