特許

J-GLOBAL ID：200903065906968061

荷電粒子ビーム露光方法

発明者： 柴田 真理 ,  高橋 靖
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-339034
公開番号（公開出願番号）：特開平5-175111
出願日： 1991年12月20日
公開日（公表日）： 1993年07月13日
要約：

【要約】【目的】 電子ビーム露光方法に関し,露光に対する補正のための測定回数を増加させることなく, より細かい補正をして,高精度,高解像性を実現することを目的とする。【構成】 荷電粒子ビーム露光において,露光に対する補正係数を設定する際に,或る露光時点以前に少なくとも2つ以上の異なる時刻で測定された補正係数の結果を基に,それ以後次の補正係数を求める測定時刻までの補正係数の経時変化を予測し,測定時刻の間隔より小さい時間ごとに補正係数を設定して露光を行うように構成する。

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビーム露光において,露光に対する補正係数を設定する際に,或る露光時点以前に少なくとも2つ以上の異なる時刻で測定された補正係数の結果を基に,それ以後次の補正係数を求める測定時刻までの補正係数の経時変化を予測し,測定時刻の間隔より小さい時間ごとに補正係数を設定して露光を行うことを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。

FI (2件)：

H01L 21/30 341 D ,  H01L 21/30 341 J

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-308317
  
• 電子線描画装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-243872   出願人：株式会社日立製作所