投影型露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-009589
公開番号（公開出願番号）：特開平5-299321
出願日： 1993年01月25日
公開日（公表日）： 1993年11月12日
要約：

【要約】【目的】照明光学系と投影光学系の各々について可変絞りを具備した投影型露光装置において、各可変絞りにより開口数を設定する場合に、照明光学系側の可変絞りを通過した直接光が投影光学系側の可変絞りに当った状態で露光が行なわれることにより発生する弊害を防止した投影型露光装置を提供する。【構成】レチクル51を照射する照明系と、該レチクルの投影像を被転写基板52上に結像させる投影光学系41と、前記照明系内に設けた前記レチクルに対する照射光集光用光学系の開口数を可変とする第1の可変絞り手段44と、前記投影光学系内に設けた該光学系の開口数を可変とする第2の可変絞り手段42とを備えた投影型露光装置において、前記第1の可変絞り手段を通過した0次回折光が全て前記第2の可変絞り手段の開口内を通過するように、前記第1および第2の可変絞り手段により前記各開口数が設定された場合以外は露光動作を禁止するための制限手段7を具備する。

請求項（抜粋）：

転写すべきパターンが形成されたレチクルを照射するための照明系と、該レチクルの投影像を被転写基板上に結像させるための投影光学系と、前記照明系内に設けた前記レチクルに対する照射光集光用光学系の開口数を可変とする第1の可変絞り手段と、前記投影光学系内に設けた該光学系の開口数を可変とする第2の可変絞り手段と、を備えた投影型露光装置において、前記第1の可変絞り手段を通過した照明光のうちレチクルを通過した0次回折光が全て前記第2の可変絞り手段の開口内を通過するように、前記第1および第2の可変絞り手段により前記各開口数が設定された場合以外は露光動作を禁止するための制限手段を具備したことを特徴とする投影型露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭62-171123
特開平2-050417
特開平4-077743

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