ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛 , 矢澤清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-257996
公開番号（公開出願番号）：特開2007-072102
出願日： 2005年09月06日
公開日（公表日）： 2007年03月22日
要約：

【課題】100nm以下の微細パターンの形成においても、疎密依存性に優れたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(B)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基を有する樹脂を含有するポジ型感光性組成物であって、(B)成分の樹脂が、ジアマンタン構造を有する繰り返し単位(Ba)と、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基を有し、該酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基の酸の作用により脱離する基内に非多環の炭化水素構造を有する繰り返し単位(Bb)とを有する樹脂であることを特徴とするポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び (B)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基を有する樹脂を含有するポジ型感光性組成物であって、 (B)成分の樹脂が、ジアマンタン構造を有する繰り返し単位(Ba)と、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基を有し、該酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基の酸の作用により脱離する基内に非多環の炭化水素構造を有する繰り返し単位(Bb)とを有する樹脂であることを特徴とするポジ型感光性組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 , C08F 220/12 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 , C08F220/12 , H01L21/30 502R

Fターム (30件)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB43 , 2H025CB45 , 2H025FA17 , 4J100AL04Q , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100BA02P , 4J100BA03P , 4J100BA16P , 4J100BA40P , 4J100BC02Q , 4J100BC03Q , 4J100BC04Q , 4J100BC07P , 4J100CA03 , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (2件)

レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-050264 出願人：富士通株式会社
米国特許出願公開第2005/0074690A号明細書

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