Al合金スパッタ用ターゲットおよびその製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石井陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-087869
公開番号（公開出願番号）：特開平7-268617
出願日： 1994年03月31日
公開日（公表日）： 1995年10月17日
要約：

【要約】【目的】膜中の合金組成が均一で特性のバラツキが少なく、合金構成成分の含有率が高いため金属反射層等の熱伝導率が低下した金属膜の成膜に用いることができ、ボンディング工程での汚染がなく、スパッタレートが向上し、加工性が改善されて加工取りしろが少ないAl合金スパッタ用ターゲットとその製造方法とを提供する【構成】 Al-M合金(ただしMは、Mg、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Fe、Co、Ni、CuおよびZnのうちの1種以上)から形成され、鏡面加工をして走査型電子顕微鏡観察を行ったとき、平均粒径5μm 以下の前記Mリッチの微細粒を含有するグレインをもち、ターゲット部と、その後方に一体的に連続し、それより幅広のバッキングプレート部を有する。

請求項（抜粋）：

Al-M合金(ただしMは、Mg、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Fe、Co、Ni、CuおよびZnのうちの1種以上である)から形成されており、鏡面加工をして走査型電子顕微鏡観察を行ったとき、平均粒径5μm 以下の前記Mリッチの微細粒を含有するグレインをもち、ターゲット部と、その後方に一体的に連続し、それより幅広のバッキングプレート部を有するAl合金スパッタ用ターゲット。

IPC (5件)：

C23C 14/34 , C22C 1/04 , G11B 7/26 531 , G11B 11/10 523 , G11B 11/10 541

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平4-099171
特開平4-017670
光磁気記録媒体
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-130197 出願人：株式会社リコー

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審査官引用 (11件)

特開平4-099171
特開平4-099171
特開平4-099171

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