特許

J-GLOBAL ID：200903066077622957

薄膜の蛍光X線分析方法

発明者： 越智 寛友
出願人/特許権者： 株式会社島津製作所
代理人 (1件)： 塩野入 章夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-306177
公開番号（公開出願番号）：特開2003-107020
出願日： 2001年10月02日
公開日（公表日）： 2003年04月09日
要約：

【要約】【課題】 薄膜試料について形状や固定位置の補正を行い、測定精度及び安定性が高い定量値を得る。【解決手段】 定量元素の蛍光X線について強度測定や理論計算に加えて、散乱X線について強度測定や理論計算を行うことによって、蛍光X線と散乱X線との比をとるものである。薄膜試料の形状や固定位置が変化した場合、蛍光X線が変化すると共に散乱X線強度も変化するが、この蛍光X線強度と散乱X線強度の比は一定の付着量に対して一定の比となる。この比を用いることによって、分析対象試料の形状や固定位置の補正を行い、線材や湾曲板のような平坦でない形状の試料の薄膜についても、高い測定精度で安定性した定量値を得る。

請求項（抜粋）：

薄膜試料に励起X線を照射し、試料から放出される分析対象元素の蛍光X線を分光検出する蛍光X線分析方法であって、分析対象元素を含み組成が既知の適宜選択された標準試料について、蛍光X線及び散乱X線の各測定強度から求めた測定強度比と、前記組成に基づいて計算した各理論強度から求めた理論強度比との比例関係を求め、組成が未知の薄膜試料について、蛍光X線及び散乱X線の各測定強度から求めた測定強度比と薄膜試料の理論強度比との間に前記比例関係があることを用いて薄膜試料の組成を定量する、薄膜の蛍光X線分析方法。

Fターム (9件)：

2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001CA01 ,  2G001FA02 ,  2G001KA01 ,  2G001MA05 ,  2G001MA10 ,  2G001NA13 ,  2G001NA17

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 蛍光X線分析方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-079682   出願人：株式会社島津製作所