特許
J-GLOBAL ID：200903066210226202
SHG素子用シリカガラスおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
成瀬 勝夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-090736
公開番号（公開出願番号）：特開平9-281534
出願日： 1996年04月12日
公開日（公表日）： 1997年10月31日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 SHG素子用シリカガラス及びその製造方法を提供する。【解決手段】 シリコンアルコキシド、あるいはシリコンアルコキシドおよびシリカ微粒子を主原料とし、液状ゾルを調製、ゲル化させた後、乾燥、焼結等の加熱処理することにより得られたシリカガラスを、温度50〜600°C、大気中あるいは真空中あるいは不活性ガス雰囲気中にて、直流電圧0.1〜10kV/mmを印加しポーリング処理してなる2次の非線形光学定数が0.1pm/V以上であるSHG素子用シリカガラスおよびその製造方法。ここで、ポ-リング処理するシリカガラスは、(a)OH基を5〜4000ppm含有(b)炭素を5〜1000ppm含有(c)アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素および遷移金属元素から選ばれるいずれか少なくとも1種類以上の元素を1〜1000ppm含有するシリカガラスが望ましい。
請求項（抜粋）：
シリコンアルコキシド、あるいはシリコンアルコキシドおよびシリカ微粒子を主原料とするゾルーゲル法により製造されるシリカガラスをポーリング処理してなる2次の非線形光学定数が0.1pm/V以上であることを特徴とするSHG素子用シリカガラス。
IPC (5件)：
G02F 1/35 505
, C01B 33/18
, C03B 8/02
, C03B 20/00
, C03C 3/06
G02F 1/35 505
, C01B 33/18 Z
, C03B 8/02
, C03B 20/00
, C03C 3/06
