特許

J-GLOBAL ID：200903066228278919

真空処理装置用の試料載置装置

発明者： 永安 伸夫 ,  丸山 英治 ,  牧野 昭孝
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (2件)： 鈴木 市郎 ,  武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-059990
公開番号（公開出願番号）：特開2004-273619
出願日： 2003年03月06日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：

【課題】より簡略な構造で、より大きな範囲で精密に温度を調節して、試料を微細に加工することのできる真空処理装置用の試料載置装置を提供する。【解決手段】真空処理室内で試料を載置して保持する支持ブロック4と、内部に冷媒流路11,12を備え、かつ前記支持ブロック4を支持する電極ブロック1を備えた空処理装置用の試料載置装置であって、前記電極ブロック1は該電極ブロック1及び前記支持ブロック4の周辺部を介して前記支持ブロック4を支持し、前記電極ブロック1及び支持ブロック4からなる試料載置部の中央部に冷媒を流すことのできる空間14を形成した。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

真空処理室内で試料を載置して保持する支持ブロックと、 内部に冷媒流路を備え、かつ前記支持ブロックを支持する電極ブロックを備えた空処理装置用の試料載置装置であって、 前記電極ブロックは該電極ブロック及び前記支持ブロックの周辺部を介して前記支持ブロックを支持し、前記電極ブロック及び支持ブロックからなる試料載置部の中央部に冷媒を流すことのできる空間を形成したことを特徴とする真空処理装置用の試料載置装置。

IPC (3件)：

H01L21/3065 ,  H01L21/68 ,  H05H1/46

FI (3件)：

H01L21/302 101G ,  H01L21/68 R ,  H05H1/46 A

Fターム (16件)：

5F004BB14 ,  5F004BB25 ,  5F004BB26 ,  5F004BC04 ,  5F004CA02 ,  5F004CA03 ,  5F004CA04 ,  5F031CA02 ,  5F031HA02 ,  5F031HA16 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031HA39 ,  5F031MA32 ,  5F031NA05 ,  5F031PA11

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 圧力制御方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-064678   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 半導体処理システム内の温度を制御する装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-379494   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• ウエハ保持装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-035360   出願人：株式会社日立製作所