特許
J-GLOBAL ID:200903066233105674
露光方法および露光装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
船橋 國則
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-346573
公開番号(公開出願番号):特開平7-106244
出願日: 1993年12月22日
公開日(公表日): 1995年04月21日
要約:
【要約】【目的】 本発明は、ステップアンドリピート法でウエハを移動しながら露光する際のウエハの移動行程の折り返し付近で、露光エネルギーが一定領域に集中的に照射されないようにして、アライメント精度の向上を図る。【構成】 露光方法としては、ステップアンドリピート法で露光する際に、露光時のウエハ101 を所定温度に保つために、少なくとも隣接する1ショット分の露光領域( 例えば領域2 )をとばして次の1ショット分の露光領域(例えば領域3)を露光する。または少なくとも隣接する1ショット分の露光領域を含む複数ショット分の露光領域をとばして次の1ショット分の露光領域を露光する。または行方向もしくは列方向のいずれかの方向でかつ一方向のみから順に露光する。および露光装置としては、図示しないが、露光時のウエハを所定の温度に保つ温度制御手段をステージに設けたものである。
請求項(抜粋):
ウエハに形成した感光性膜を露光装置によって露光する露光方法において、露光時のウエハの温度を所定の温度に保つことを特徴とする露光方法。
IPC (2件):
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開昭62-188228
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特開平2-082510
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特開平3-003222
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半導体素子の露光方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-181401
出願人:株式会社東芝
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