特許
J-GLOBAL ID：200903066255259187

ガスハイドレート製造装置

発明者：
一条 敏夫

一条 敏夫 について

, 
中村 喜久男

中村 喜久男 について


出願人/特許権者：
三井造船プラントエンジニアリング株式会社

三井造船プラントエンジニアリング株式会社 について


代理人 (3件)： 小川 信一 ,  野口 賢照 ,  斎下 和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-235705
公開番号（公開出願番号）：特開2004-075771
出願日： 2002年08月13日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：
【課題】ガスハイドレートの生成速度が高く、しかも、ガスハイドレートスラリー中の水分を極めて少なくできる高効率で低コストのガスハイドレート製造装置を提供することにある。【解決手段】液体Wとガスハイドレート形成物質Gを混合し、加圧下で冷却してガスハイドレートHを生成させるガスハイドレート製造装置1を、長尺筒状体からなるチューブラリアクター11と、該チューブラリアクター11に前記液体Wを供給する液体供給手段14と、該チューブラリアクター11に前記ガスハイドレート形成物質Gを供給するガスハイドレート形成物質供給手段15とを備えて形成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
液体とガスハイドレート形成物質を混合し、加圧下で冷却してガスハイドレートを生成させるガスハイドレート製造装置であって、長尺筒状体からなるチューブラリアクターと、該チューブラリアクターに前記液体を供給する液体供給手段と、該チューブラリアクターに前記ガスハイドレート形成物質を供給するガスハイドレート形成物質供給手段とを備えて形成したことを特徴とするガスハイドレート製造装置。
IPC (10件)：
C10L3/06 ,  B01J19/00 ,  C07B61/00 ,  C07B63/02 ,  C07C5/00 ,  C07C7/20 ,  C07C9/04 ,  C07C9/06 ,  C07C9/08 ,  C07C9/10
FI (10件)：
C10L3/00 A ,  B01J19/00 A ,  C07B61/00 C ,  C07B63/02 B ,  C07C5/00 ,  C07C7/20 ,  C07C9/04 ,  C07C9/06 ,  C07C9/08 ,  C07C9/10
Fターム (18件)：
4G075AA03 ,  4G075AA43 ,  4G075AA62 ,  4G075BA10 ,  4G075BD13 ,  4G075BD22 ,  4G075CA03 ,  4G075CA65 ,  4G075DA01 ,  4G075EB21 ,  4G075EC11 ,  4H006AA02 ,  4H006AA04 ,  4H006AA05 ,  4H006AC93 ,  4H006AD33 ,  4H006BD81 ,  4H006BD84
引用特許：
審査官引用 (2件)

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