特許

J-GLOBAL ID：200903066260307041

気体分子の整列保持方法および気体分子保持材料

発明者： 北川 進 ,  小林 達生
出願人/特許権者： 京都大学長
代理人 (3件)： 清水 善▲廣▼ ,  阿部 伸一 ,  辻田 幸史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-367343
公開番号（公開出願番号）：特開2004-196594
出願日： 2002年12月18日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：

【課題】遷移金属カチオンとそれを連結する有機架橋配位子によって多孔性3次元構造を構成して細孔内に、常温常圧で気体の分子を、収容することができる配位高分子のその細孔内の空間を利用して気体分子を整列保持させる方法およびこのようにして気体分子が保持された材料を提供すること。【解決手段】本発明は、遷移金属カチオンとそれを連結する有機架橋配位子によって多孔性3次元構造を構成して細孔内に、常温常圧で気体の分子を、収容することができる配位高分子のその細孔内に気体分子を収容する際、有機架橋配位子の種類を選択して細孔入口寸法を所望する数値に設計することで気体分子を規則性を持って収容し、細孔内の空間を利用して気体分子を整列保持させる方法およびこの方法を利用して得られる気体分子保持材料である。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

遷移金属カチオンとそれを連結する有機架橋配位子によって多孔性3次元構造を構成して細孔内に、常温常圧で気体の分子を、収容することができる配位高分子のその細孔内に気体分子を収容する際、有機架橋配位子の種類を選択して細孔入口寸法を所望する数値に設計することで気体分子を規則性を持って収容し、細孔内の空間を利用して気体分子を整列保持させる方法。

IPC (1件)：

C01B13/00

FI (1件)：

C01B13/00

Fターム (8件)：

4G042AA01 ,  4H048AA03 ,  4H048AB80 ,  4H048AB99 ,  4H048VA20 ,  4H048VA32 ,  4H048VA56 ,  4H048VB10

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ガス貯蔵性有機金属錯体、その製造方法およびガス貯蔵装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-013696   出願人：大阪瓦斯株式会社