特許

J-GLOBAL ID：200903066310865156

レジスト組成物用樹脂、ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法

発明者： 岩下 淳 ,  立川 俊和 ,  久保田 尚孝
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-263753
公開番号（公開出願番号）：特開2005-336452
出願日： 2004年09月10日
公開日（公表日）： 2005年12月08日
要約：

【課題】 レジストパターンの膨潤を抑制できる技術を提供する。【解決手段】 フッ素化されたヒドロキシアルキル基を有する脂環式基を含有する構成単位(a1)と、アクリル酸エステルから誘導される構成単位であって、水酸基含有脂環式基を含む構成単位(a2)とを有するレジスト組成物用樹脂を用いてネガ型レジスト組成物とし、これを用いてレジストパターンを形成する。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

フッ素化されたヒドロキシアルキル基を有する脂環式基を含有する構成単位(a1)と、アクリル酸エステルから誘導される構成単位であって、水酸基含有脂環式基を含む構成単位(a2)とを有することを特徴とするレジスト組成物用樹脂。

IPC (4件)：

C08F220/28 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038 ,  H01L21/027

FI (4件)：

C08F220/28 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (38件)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL26P ,  4J100AL26Q ,  4J100AL26R ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BB07P ,  4J100BB07Q ,  4J100BB07R ,  4J100BB10P ,  4J100BB17P ,  4J100BB17Q ,  4J100BB17R ,  4J100BC08P ,  4J100BC09Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特公平8-3635号公報
  
• ネガ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-037847   出願人：東京応化工業株式会社