特許
J-GLOBAL ID：200903066326972190
パタ-ン描画装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-030940
公開番号（公開出願番号）：特開平8-227842
出願日： 1995年02月20日
公開日（公表日）： 1996年09月03日
要約：
【要約】【目的】本発明の目的は近接効果補正作業を効率的に行なうのに適したパタ-ン描画装置を提供することにある。【構成】メモリ4に記憶されている面積率を読出して密度マップとしてグラフィック表示装置1に表示する。さらに制御用コンピュ-タ2に表示する。その面積率マップには更に回路パタ-ンが重ねて表示される。この表示を観察しながら近接効果補正の一環として面積率マップを部分的にきめ細かく補正する。
請求項（抜粋）：
試料を照射ビ-ムで照射してその試料上にパタ-ンを描画するパタ-ン描画装置において、前記パタ-ンを小パタ-ンに分解する手段と、保持領域をもち、前記分解されたそれぞれの小パタ-ンの面積に比例する値を前記保持領域のうちの該当する保持領域にそれぞれ保持させる手段と、その保持された面積に比例する値の分布を表す面積マップを表示する手段と、その表示された面積マップの部分領域を選択する手段とを備え、その選択された部分領域の前記面積に比例する値を補正し、その補正された値に応じて前記照射ビ-ムによる前記試料の照射量を補正するようにしたことを特徴とするパタ-ン描画装置。
FI (5件)：
H01L 21/30 541 M
, H01L 21/30 541 D
, H01L 21/30 541 C
, H01L 21/30 541 S
, H01L 21/30 541 P
