ポリウレタン化合物及びこれを含有する感光性樹脂組成物

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-368130
公開番号（公開出願番号）：特開2004-196984
出願日： 2002年12月19日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：

【課題】活性エネルギー線に対する感光性に優れ、希アルカリ水溶液による現像によりパターン形成できると共に、後硬化(ポストキュア)工程で熱硬化させて得られる硬化膜が十分なフレキシブル性を有し、高絶縁性で密着性、金メッキ耐性、無電解金メッキ耐性、スズメッキ耐性に優れたソルダーレジストインキに適するアルカリ水溶液可溶性ポリウレタン化合物及びこれを含有する樹脂組成物を提供する。【解決手段】下記に示される化合物(A)、(B)、(C)、(D)、及び任意成分としての化合物(E)を反応させて得られることを特徴とするアルカリ水溶液可溶性ポリウレタン化合物(F)。(A)分子中に2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物(a)と分子中にエチレン性不飽和基を有するモノカルボン酸化合物(b)とを反応させて得られるエポキシカルボキシレート化合物(B)ジイソシアネート化合物(C)分子中に2個の水酸基を有するカルボン酸化合物(D)分子中にエチレン性不飽和基を有するエポキシ化合物(E)化合物(A)及び化合物(C)以外のジオール化合物

請求項（抜粋）：

下記に示される化合物(A)、(B)、(C)、(D)、及び任意成分としての化合物(E)を反応させてなるアルカリ水溶液可溶性ポリウレタン化合物(F)。 (A)分子中に2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物(a)と分子中にエチレン性不飽和基を有するモノカルボン酸化合物(b)とを反応させて得られるエポキシカルボキシレート化合物 (B)ジイソシアネート化合物 (C)分子中に2個の水酸基を有するカルボン酸化合物 (D)分子中にエチレン性不飽和基を有するエポキシ化合物 (E)(A)及び(C)以外のジオール化合物。

IPC (3件)：

C08G18/67 , C08G18/72 , G03F7/027

FI (4件)：

C08G18/67 , C08G18/72 Z , G03F7/027 513 , G03F7/027 515

Fターム (50件)：

2H025AA01 , 2H025AA06 , 2H025AA07 , 2H025AA10 , 2H025AA14 , 2H025AB15 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025BC32 , 2H025BC42 , 2H025BC66 , 2H025BC74 , 2H025BC83 , 2H025BC85 , 2H025CA01 , 2H025CA27 , 2H025CA34 , 2H025CC17 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA17 , 2H025FA29 , 4J034CA04 , 4J034DA01 , 4J034DB04 , 4J034DK02 , 4J034DK05 , 4J034DP13 , 4J034DP18 , 4J034FA02 , 4J034FB08 , 4J034FC01 , 4J034FE03 , 4J034GA06 , 4J034GA33 , 4J034HA07 , 4J034HB01 , 4J034HC03 , 4J034HC06 , 4J034HC12 , 4J034HC13 , 4J034HC17 , 4J034HC22 , 4J034HC46 , 4J034HC52 , 4J034HC54 , 4J034HC64 , 4J034HC67 , 4J034HC71 , 4J034HC73

引用特許：

審査官引用 (1件)

フォトレジスト用感光性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-203021 出願人：関西ペイント株式会社

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