特許
J-GLOBAL ID:200903066331449330
有機電子素子形成用材料の組成選定方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
吉村 俊一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-308071
公開番号(公開出願番号):特開2005-077245
出願日: 2003年08月29日
公開日(公表日): 2005年03月24日
要約:
【課題】信頼性に優れた有機電子素子を形成するための有機電子素子形成用材料の組成を選定する方法を提供する。【解決手段】異なる組成からなる複数の有機電子素子形成用材料を準備するプロセスと、複数の有機電子素子形成用材料のそれぞれについて、経時的な変化を生じさせる外的要素を印加し又は印加しながら、当該有機電子素子形成用材料と光導波路との界面の状態変化をスペクトルとして測定するプロセスと、スペクトルを時間軸展開して、有機電子素子形成用材料に生じる変化を段階毎に前記異種分析手段で測定するプロセスと、スペクトルのデータと、各段階毎の異種分析データとを比較するプロセスと、複数の有機電子素子形成用材料それぞれから得られたスペクトルのデータと各段階毎の異種分析データとを対比して、最適な有機電子素子形成用材料の組成を選定するプロセスとからなる。【選択図】図6
請求項(抜粋):
スラブ型の光導波路を利用したスペクトル測定手段と、1又は2以上の異種分析手段とを用いた有機電子素子形成用材料の組成を選定する方法であって、異なる組成からなる複数の有機電子素子形成用材料を準備するプロセスと、前記複数の有機電子素子形成用材料のそれぞれについて、経時的な変化を生じさせる外的要素を印加し又は印加しながら、当該有機電子素子形成用材料と前記光導波路との界面の状態変化をスペクトルとして測定するプロセスと、前記複数の有機電子素子形成用材料のそれぞれについて、前記スペクトルを時間軸展開して、前記有機電子素子形成用材料に生じる変化を段階毎に前記異種分析手段で測定するプロセスと、前記複数の有機電子素子形成用材料のそれぞれについて、前記スペクトルのデータと、前記各段階毎の異種分析データとを比較するプロセスと、前記複数の有機電子素子形成用材料それぞれから得られたスペクトルのデータと各段階毎の異種分析データとを対比して、最適な有機電子素子形成用材料の組成を選定するプロセスと、を有することを特徴とする有機電子素子形成用材料の組成選定方法。
IPC (4件):
G01N21/27
, G01N21/64
, H05B33/10
, H05B33/14
FI (4件):
G01N21/27 C
, G01N21/64 G
, H05B33/10
, H05B33/14 B
Fターム (33件):
2G043AA01
, 2G043BA14
, 2G043CA05
, 2G043EA01
, 2G043EA14
, 2G043FA03
, 2G043HA01
, 2G043HA02
, 2G043HA05
, 2G043HA12
, 2G043HA15
, 2G043JA01
, 2G043NA01
, 2G043NA05
, 2G059AA05
, 2G059BB08
, 2G059BB15
, 2G059EE02
, 2G059EE07
, 2G059EE12
, 2G059GG07
, 2G059GG10
, 2G059HH02
, 2G059HH03
, 2G059JJ01
, 2G059JJ11
, 2G059JJ12
, 2G059JJ13
, 2G059JJ17
, 2G059JJ24
, 2G059KK02
, 2G059PP04
, 3K007DB03
引用特許:
引用文献:
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