特許

J-GLOBAL ID：200903066396825941

処理方法及び処理装置

発明者： 立山 清久 ,  野村 雅文 ,  友枝 隆之
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン九州株式会社
代理人 (1件)： 中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-200289
公開番号（公開出願番号）：特開平8-045832
出願日： 1994年08月03日
公開日（公表日）： 1996年02月16日
要約：

【要約】【目的】 処理に供された処理液を容易に回収し、再生を容易にした処理方法及び処理装置を提供する。【構成】 処理液である現像液を供給する現像液供給ノズル22の他に、基板G上の現像液を吸引により回収する吸引ノズル23を設ける。これにより、現像液供給ノズル22から現像液を基板G上に供給した後、現像液を吸引ノズルによって吸引して回収することができる。また、回収した現像液を再生処理手段50によって再生して、現像液を再利用することができる。

請求項（抜粋）：

被処理体の表面に処理液を供給する処理液供給工程と、上記被処理体表面上の処理液を回収する処理液回収工程と、上記被処理体に洗浄液を供給する洗浄工程と、上記被処理体に付着した洗浄液を除去する乾燥工程とを有することを特徴とする処理方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 502

FI (2件)：

H01L 21/30 569 C ,  H01L 21/30 569 E

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 薬液処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-003304   出願人：株式会社日立製作所
• 特開昭63-078529