CMP排液の凝集処理方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：柳原成
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-190127
公開番号（公開出願番号）：特開平11-033560
出願日： 1997年07月15日
公開日（公表日）： 1999年02月09日
要約：

【要約】【課題】アルミニウム塩または鉄塩の無機系凝集剤では凝集しないCMP(Chemical Mechanical Polishing)排液を、簡単な操作で凝集処理する。【解決手段】半導体製造工程の研磨工程から排出されるSiO2微粒子が懸濁したCMP排液10をカルシウム反応槽1に導入し、Ca(OH)2、CaCl2などのカルシウムイオン源11を添加した後、無機系凝集剤反応槽2に導入し、無機系凝集剤15を添加して凝集処理する。さらに高分子凝集剤反応槽3において高分子凝集剤22を添加し、フロック生長槽4において大形のフロックを形成させる。沈殿槽5で固液分離した分離液は処理水32として系外に排出し、分離固形分は脱水装置6で脱水処理する。

請求項（抜粋）：