金属酸化物膜およびその製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：小栗昌平 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-029772
公開番号（公開出願番号）：特開2002-234710
出願日： 2001年02月06日
公開日（公表日）： 2002年08月23日
要約：

【要約】【課題】光遮蔽や光波長選択透過作用を持つために十分な厚さを有し、かつ平滑で透明な金属酸化物膜およびその製造方法を提供する。【解決手段】金属アルコキシドを原料としてディップコーティング法により形成されるものであって、金属アルコキシド溶液の溶媒として常圧における沸点が78°C以下のものを用い、基板の引き上げ速度を1〜20cm/minとすることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

金属アルコキシドを原料としてディップコーティング法により形成される金属酸化物膜であって、金属アルコキシド溶液の溶媒として常圧における沸点が78°C以下のものを用い、基板の引き上げ速度を1〜20cm/minとしたことを特徴とする金属酸化物膜。

IPC (4件)：

C01B 13/32 , C01G 1/02 , C01G 23/053 , C03C 17/25

FI (4件)：

C01B 13/32 , C01G 1/02 , C01G 23/053 , C03C 17/25 A

Fターム (22件)：

4G042DA02 , 4G042DB11 , 4G042DD02 , 4G042DE09 , 4G042DE14 , 4G047CA02 , 4G047CB06 , 4G047CC03 , 4G047CD02 , 4G059AA01 , 4G059AA07 , 4G059AC02 , 4G059AC04 , 4G059AC16 , 4G059AC30 , 4G059EA01 , 4G059EA04 , 4G059EA05 , 4G059EB07 , 4G059GA02 , 4G059GA04 , 4G059GA12

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開昭60-071547
ゾルゲル法による薄膜の作製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-148611 出願人：住友電気工業株式会社
特開昭63-162549

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引用文献：

審査官引用 (3件)

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