特許

J-GLOBAL ID：200903066482528763

金属酸化物膜およびその製造方法

発明者： 岸本 章 ,  新子 貴史 ,  中塚 勝人 ,  長谷川 史彦
出願人/特許権者： 日鉄鉱業株式会社 ,  中塚 勝人 ,  長谷川 史彦
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-029772
公開番号（公開出願番号）：特開2002-234710
出願日： 2001年02月06日
公開日（公表日）： 2002年08月23日
要約：

【要約】【課題】 光遮蔽や光波長選択透過作用を持つために十分な厚さを有し、かつ平滑で透明な金属酸化物膜およびその製造方法を提供する。【解決手段】 金属アルコキシドを原料としてディップコーティング法により形成されるものであって、金属アルコキシド溶液の溶媒として常圧における沸点が78°C以下のものを用い、基板の引き上げ速度を1〜20cm/minとすることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

金属アルコキシドを原料としてディップコーティング法により形成される金属酸化物膜であって、金属アルコキシド溶液の溶媒として常圧における沸点が78°C以下のものを用い、基板の引き上げ速度を1〜20cm/minとしたことを特徴とする金属酸化物膜。

IPC (4件)：

C01B 13/32 ,  C01G 1/02 ,  C01G 23/053 ,  C03C 17/25

FI (4件)：

C01B 13/32 ,  C01G 1/02 ,  C01G 23/053 ,  C03C 17/25 A

Fターム (22件)：

4G042DA02 ,  4G042DB11 ,  4G042DD02 ,  4G042DE09 ,  4G042DE14 ,  4G047CA02 ,  4G047CB06 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G059AA01 ,  4G059AA07 ,  4G059AC02 ,  4G059AC04 ,  4G059AC16 ,  4G059AC30 ,  4G059EA01 ,  4G059EA04 ,  4G059EA05 ,  4G059EB07 ,  4G059GA02 ,  4G059GA04 ,  4G059GA12

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭60-071547
  
• ゾルゲル法による薄膜の作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-148611   出願人：住友電気工業株式会社
• 特開昭63-162549
  
• 薄膜状誘電体及びその製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-200299   出願人：住友化学工業株式会社

引用文献：

審査官引用 (3件)

• 光学薄膜の多層コーティングによる光反射特性の向上
• ゾル-ゲル法による光学多層薄膜の製法および光反射特性
• The role and interactions of process parameters on the natuer of alkoxide derives sol-gel films