特許
J-GLOBAL ID:200903066499313191

チタン酸化膜の作製方法およびチタン酸化膜

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志賀 正武 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-231580
公開番号(公開出願番号):特開平11-061372
出願日: 1997年08月27日
公開日(公表日): 1999年03月05日
要約:
【要約】【課題】 基材とチタン酸化膜との密着性を向上させ、成膜時の溶射エネルギーの低減を図るとともに、基材の選択性を高めて、チタン酸化膜の光触媒機能を充分に発揮させる。【解決手段】 基材に下地材を溶着して下地層を作製する工程と、該下地層に下地材とTiO2 粒子とを混合した混合体を溶着させて混合層を作製する工程と、該混合層にTiO2 粒子を溶着させることによりTiO2 層を作製する工程とを有する。
請求項(抜粋):
TiO2 粒子を基材(1)の表面に溶射してチタン酸化膜(X)を作製する方法であって、基材に下地材を溶着して下地層(2)を作製する工程と、該下地層に下地材とTiO2 粒子とを混合した混合体を溶着させて混合層(3,4)を作製する工程と、該混合層にTiO2 粒子を溶着させることによりTiO2 層(5)を作製する工程とを有することを特徴とするチタン酸化膜の作製方法。
IPC (2件):
C23C 4/10 ,  C23C 4/02
FI (2件):
C23C 4/10 ,  C23C 4/02
引用特許:
審査官引用 (8件)
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