特許

J-GLOBAL ID：200903066520680760

高分子ゲルおよびその製造方法

発明者： ▲ぐん▼ 剣萍 ,  古川 英光 ,  黒川 孝幸 ,  黒田 慎也 ,  中島 祐
出願人/特許権者： 国立大学法人 北海道大学
代理人 (6件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-025667
公開番号（公開出願番号）：特開2009-185156
出願日： 2008年02月05日
公開日（公表日）： 2009年08月20日
要約：

【課題】引張り応力による伸びが良好な高分子ゲルを製造できるようにする。【解決手段】架橋網目構造を有する第1のポリマーと液体を含む第1のゲルを調製する工程と、該第1のゲルを凍結乾燥した後、粉砕して乾燥ゲル微粒子を得る工程と、第2のモノマーを含有する溶液中に前記乾燥ゲル微粒子を浸漬させて前駆体液を得る工程と、前記前駆体液中の第2のモノマーを重合させる工程を有することを特徴とする高分子ゲルの製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

架橋網目構造を有する第1のポリマーと液体を含む第1のゲルを調製する工程と、 該第1のゲルを凍結乾燥した後、粉砕して乾燥ゲル微粒子を得る工程と、 第2のモノマーを含有する溶液中に前記乾燥ゲル微粒子を浸漬させて前駆体液を得る工程と、 前記前駆体液中の第2のモノマーを重合させる工程を有することを特徴とする高分子ゲルの製造方法。

IPC (1件)：

C08F 291/00

FI (1件)：

C08F291/00

Fターム (24件)：

4J026AA17 ,  4J026AA21 ,  4J026AA26 ,  4J026AA38 ,  4J026AA43 ,  4J026AA45 ,  4J026AA47 ,  4J026AA48 ,  4J026AA50 ,  4J026AA61 ,  4J026AA62 ,  4J026AB44 ,  4J026BA05 ,  4J026BA08 ,  4J026BA20 ,  4J026BA25 ,  4J026BA27 ,  4J026BA29 ,  4J026BA30 ,  4J026BA32 ,  4J026BA40 ,  4J026BA43 ,  4J026FA04 ,  4J026GA06

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 国際公開第03/093337号パンフレット
  
• 高分子ゲル組成物及びその製造方法、並びに高分子ゲル組成物を用いた光学素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-078887   出願人：富士ゼロックス株式会社
• 高分子樹脂微粒子、導電性微粒子及びこれを含んだ異方導電性接続材料
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2007-542878   出願人：チェイルインダストリーズインコーポレイテッド

審査官引用 (2件)

• 高分子樹脂微粒子、導電性微粒子及びこれを含んだ異方導電性接続材料
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2007-542878   出願人：チェイルインダストリーズインコーポレイテッド
• 高分子ゲル組成物及びその製造方法、並びに高分子ゲル組成物を用いた光学素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-078887   出願人：富士ゼロックス株式会社