プラズマ発生装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：八木田茂 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-083895
公開番号（公開出願番号）：特開平9-275096
出願日： 1996年04月05日
公開日（公表日）： 1997年10月21日
要約：

【要約】【課題】磁場発生コイル及び電場発生コイルの配置を変えたことにより、より小型で効率のよいNLDプラズマ発生装置を提供すること。【解決手段】円筒形で側面が誘電体の真空チャンバ内でプラズマを発生するようにしたプラズマ発生装置において、真空チャンバ内に連続して存在する磁場ゼロの位置である環状磁気中性線を形成する複数の磁場発生コイルのうち、プラズマ発生用高周波コイルの配置される中央位置に位置する隣接した磁場発生コイルの間隔を大きくとり、その中間の位置にプラズマ発生用高周波コイルを設置することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

円筒形で側面が誘電体の真空チャンバ内に連続して存在する磁場ゼロの位置である環状磁気中性線を形成するための同軸上に配列した複数の磁場発生コイルから成り、中央部に配置された複数のコイルと残りの外側の複数のコイルに互いに逆向きの電流を流すことにより環状磁気中性線の半径を調整すると同時に磁場ゼロの位置での磁場の勾配を調整するようにした磁場発生手段と、この磁場発生手段によって真空チャンバ内に形成された磁気中性線に沿って交番電場を加えて、この磁気中性線に放電プラズマを発生するための1重を含む多重のプラズマ発生用高周波コイルから成る電場発生手段とを有し、複数の磁気中性線形成用磁場発生コイルのうち、プラズマ発生用高周波コイルの配置される中央位置に位置する隣接した磁場発生コイルの間隔を大きくとり、その中間の位置にプラズマ発生用高周波コイルを設置するように構成したことを特徴とするプラズマ発生装置。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 , H01L 21/205 , H05H 1/46

FI (3件)：

H01L 21/302 B , H01L 21/205 , H05H 1/46 A

引用特許：

出願人引用 (2件)

エッチング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-217965 出願人：日本真空技術株式会社
エッチング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-116154 出願人：日本真空技術株式会社

審査官引用 (2件)

エッチング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-217965 出願人：日本真空技術株式会社
エッチング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-116154 出願人：日本真空技術株式会社

前のページに戻る