特許
J-GLOBAL ID：200903089304946454
エッチング装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
八木田 茂 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-217965
公開番号（公開出願番号）：特開平9-064015
出願日： 1995年08月25日
公開日（公表日）： 1997年03月07日
要約：
【要約】【課題】円筒形で上面が誘電体である真空チャンバー内でプラズマを利用して基板をエッチングする装置において、磁気中性線放電を利用して0.1Pa以下の圧力でもプラズマを発生させることができ、大口径基板上で高均一かつチャージアップダメージの無い高速エッチングを可能にすること。【解決手段】真空チャンバー内に連続して存在する磁場ゼロの位置である環状磁気中性線を形成する磁場発生手段が、上部誘電体上に載置された上下に極性を持つ永久磁石とそれよりも内径が大きく上記永久磁石と同極性を持つドーナツ形板状永久磁石とで構成され、磁場発生手段によって真空チャンバー内に形成された磁気中性線に沿って交番電場を加えてこの磁気中性線に放電プラズマを発生させる電場発生手段が1重を含む多重の高周波コイルから成り、円盤状永久磁石とドーナツ形板状永久磁石の間に配置されること。
請求項（抜粋）：
円筒形で上面が誘電体である真空チャンバー内でプラズマを利用して基板をエッチング処理するようにしたエッチング装置であって、真空チャンバー内に連続して存在する磁場ゼロの位置である環状磁気中性線を形成する磁場発生手段を、上部誘電体上に載置された上下に極性を持つ永久磁石とそれよりも内径が大きく上記永久磁石と同極性を持つドーナツ形板状永久磁石とにより構成し、磁場発生手段によって真空チャンバー内に形成された磁気中性線に沿って交番電場を加えてこの磁気中性線に放電プラズマを発生するための1重を含む多重の高周波コイルから成る電場発生手段を、永久磁石とドーナツ形板状永久磁石の間に配置し、また形成される磁気中性線の作る面と平行して離れた位置に直流あるいは高周波バイアスを印加するようにした基板電極を設けたことを特徴するエッチング装置。
IPC (3件)：
H01L 21/3065
, C23F 4/00
, H05H 1/46
H01L 21/302 C
, C23F 4/00 G
, H05H 1/46 A
