特許
J-GLOBAL ID:200903066530627191
弾性表面波モジュール素子及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
池内 寛幸 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-112756
公開番号(公開出願番号):特開平8-307190
出願日: 1995年05月11日
公開日(公表日): 1996年11月22日
要約:
【要約】【目的】 弾性表面波モジュール素子の動作周波数を高精度に可変化、安定化できる素子構造製造と、素子のダイシング工程に発生する電極破壊を回避する製造方法とを提供する。【構成】 弾性表面波送信用42及び受信用電極44と、弾性表面波伝搬用基板41とからなり、前記基板表面の少なくとも一部に、高抵抗薄膜47が形成され、さらに前記薄膜47上に弾性表面波の伝搬速度を基板に発生する弾性表面波の伝搬速度と異ならせるために形成された薄膜46を形成する。弾性表面波伝搬用基板41のウエハーに金属膜を堆積し、その上に電極42、44を形成した後に前記ウエハーをダイシング処理後に、前記金属膜に光照射などにより高抵抗化して高抵抗薄膜47を形成する。
請求項(抜粋):
弾性表面波励振用及び受信用電極と、弾性表面波伝搬用基板とからなり、前記基板表面の少なくとも一部に薄膜が形成され、前記薄膜に発生する弾性表面波の伝搬速度を基板の伝搬速度と異ならせるためのIV-b族元素を含む酸化物薄膜を形成した弾性表面波モジュール素子。
IPC (3件):
H03H 9/145
, H03H 3/08
, H03H 9/25
FI (3件):
H03H 9/145 C
, H03H 3/08
, H03H 9/25 C
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特開昭61-063103
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特開昭52-016146
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特開昭52-063643
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