特許
J-GLOBAL ID:200903066541780480
誘導結合プラズマ整列装置及び方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
吉田 研二
, 石田 純
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-172345
公開番号(公開出願番号):特開2007-048742
出願日: 2006年06月22日
公開日(公表日): 2007年02月22日
要約:
【課題】嵩張って重いRF電子回路を動かす必要がなく、RF輻射を抑圧でき且つインピーダンスマッチング向け調整幅が小幅な誘導結合プラズマ(ICP)整列装置を得る。【解決手段】ガス中にICPを発生させるコイル10、その一部又は全部がコイル10の内側にあるトーチ20、並びにコイル軸100に対するトーチ軸200の配置が変化するようコイル10に対するトーチ20の位置を調整する手段である調整機構80によって、ICP整列装置を構成する。調整機構80によって、コイル軸10とトーチ軸200の角度、距離又はその双方を調整し、またトーチ軸200をコイル軸100に対しほぼ平行に保ちつつトーチ軸200とコイル軸100の距離を調整する。コイル10の位置は、ICP由来の光子又はイオンをサンプリングする開口に対しほぼ固定する。【選択図】図5
請求項(抜粋):
ガス中に誘導結合プラズマを発生させるコイルと、
その一部又は全部がコイルの内側にあるトーチと、
コイルの軸とトーチの軸の相対配置が変化するようコイルに対するトーチの位置を調整する手段である調整機構と、
を備える誘導結合プラズマ整列装置。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (1件):
引用特許:
出願人引用 (11件)
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米国特許第4682026号明細書
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米国特許第4551609号明細書
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米国特許第5185523号明細書
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特開平2-227653号公報
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米国特許出願公開第2002/0100751号明細書(A1)
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米国特許第5334834号明細書
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欧州特許出願公開第0910231号明細書(A)
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英国特許出願公開第968472号明細書(A)
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米国特許出願公開第2004/195218号明細書(A1)
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プラズマイオン源質量分析装置及びイオン源位置調整方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-149332
出願人:株式会社日立製作所
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特開平1-265500
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審査官引用 (3件)
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