特許

J-GLOBAL ID：200903066544052256

高充填されたSiO2分散液、その製造方法及びその使用

発明者： フリッツ シュヴェルトフェーガー ,  ヨハン ヴァイス ,  ペーター リッター ,  アーヒム モルター ,  ヴォルフガング シュヴェーレン ,  フォルカー フライ ,  ハンス-ペーター シェルム
出願人/特許権者： ワツカー-ケミー ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング
代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-521652
公開番号（公開出願番号）：特表2003-508334
出願日： 2000年09月07日
公開日（公表日）： 2003年03月04日
要約：

【要約】本発明は高充填されたSiO2分散液、その製造方法並びに該分散液から多孔質の非晶質SiO2成形体を極めて高い充填度で製造する方法に関する。本発明による分散液は、均質の非常に良好に可鋳性な、非晶質SiO2粒子の分散剤中の分散液であり、これらは、少なくとも80質量%の非晶質SiO2粒子の充填度を有し、非晶質SiO2粒子が二峰性の粒度分布を有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

分散剤中の非晶質SiO2粒子の非常に良好に可鋳性な均質の分散液において、該分散液が少なくとも80質量%の非晶質SiO2粒子の充填度を有し、非晶質SiO2粒子は大きい方の非晶質SiO2粒子及び小さい方の非晶質SiO2粒子によって形成される二峰性の粒度分布を有することを特徴とする分散液。

IPC (7件)：

C01B 33/141 ,  C01B 33/12 ,  C03B 20/00 ,  C04B 35/14 ,  C04B 35/622 ,  C04B 38/00 303 ,  C04B 38/00 304

FI (8件)：

C01B 33/141 ,  C01B 33/12 Z ,  C03B 20/00 F ,  C03B 20/00 H ,  C04B 35/14 ,  C04B 38/00 303 Z ,  C04B 38/00 304 Z ,  C04B 35/00 D

Fターム (22件)：

4G014AH08 ,  4G019FA13 ,  4G019GA02 ,  4G030AA37 ,  4G030BA25 ,  4G030CA01 ,  4G030CA09 ,  4G030GA09 ,  4G030GA20 ,  4G072AA25 ,  4G072AA28 ,  4G072AA38 ,  4G072CC07 ,  4G072CC10 ,  4G072CC14 ,  4G072CC18 ,  4G072GG02 ,  4G072HH16 ,  4G072HH17 ,  4G072LL06 ,  4G072LL15 ,  4G072UU21

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平1-119538
  
• 高シリカガラスからなる製品の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-103703   出願人：アメリカンテレフォンアンドテレグラフカムパニー
• 特開平1-119538