特許

J-GLOBAL ID：200903066548619374

フォトマスク、およびフォトマスクの製造方法

発明者： 伊藤 大修
出願人/特許権者： 東レ株式会社
代理人 (2件)： 加藤 敬子 ,  廣幸 正樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-079753
公開番号（公開出願番号）：特開2008-241921
出願日： 2007年03月26日
公開日（公表日）： 2008年10月09日
要約：

【課題】 静電気の発生を防止して、フォトマスクの静電破壊や遮光膜パターンの破損が生じにくく、かつ遮光膜パターンの精度を損なわないフォトマスクおよびその製造方法を提供する。 【解決手段】 本発明のフォトマスクは、透明基板と、前記透明基板上に設けられた透明導電性膜と、前記透明導電性膜上に設けられた遮光膜パターンとを、備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

透明基板と、 前記透明基板上に設けられた透明導電性膜と、 前記透明導電性膜上に設けられた遮光膜パターンと を、備えるフォトマスク。

IPC (1件)：

G03F 1/08

FI (2件)：

G03F1/08 Z ,  G03F1/08 L

Fターム (5件)：

2H095BA03 ,  2H095BB25 ,  2H095BB28 ,  2H095BB30 ,  2H095BC17

引用特許：

出願人引用 (1件)

• フォトマスクの静電気による破壊を防止する方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-389468   出願人：株式会社アンデスインテック