特許
J-GLOBAL ID：200903066576924174
光変調デバイス、その製造方法および表示装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-302215
公開番号（公開出願番号）：特開平10-142530
出願日： 1996年11月13日
公開日（公表日）： 1998年05月29日
要約：
【要約】【課題】 乱反射を生じない光変調デバイスの製造方法の提供【解決手段】 耐熱性を有する耐熱性基板に、照射光の照射により剥離を生ずる剥離層を形成する剥離層形成工程(a)と、剥離層に、圧電体層を形成する圧電体層工程(b)と、圧電体層に対し、電極パターンを形成し、ミラー要素を画素ごとに形成するパターン形成工程(d)と、能動素子要素が画素ごとに設けられた能動素子基板と耐熱性基板に積層された圧電体層とを、各能動素子要素と各ミラー要素とが対応するように電気的に接続する接続工程(e)と、剥離層に対し、耐熱性基板側から照射光を照射して剥離層に剥離を生じさせる照射分離工程(g)と、を備える。
請求項（抜粋）：
光の照射側から第1の電極薄膜、圧電性を有する圧電膜、および第2の電極薄膜の順で積層され、かつ前記第2の電極薄膜にパターンを形成することにより複数のミラー要素が形成された圧電体層と、前記ミラー要素ごとに形成された能動素子を有する能動素子基板と、を備え、各前記ミラー要素について、前記能動素子の出力電極とこのミラー要素に対応する前記第2の電極薄膜とが各々電気的に接続され、かつ、前記第1の電極薄膜または第2の電極薄膜のいずれか一方を光反射性を有する層とすることを特徴とする光変調デバイス。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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