特許
J-GLOBAL ID:200903066623186730

過形成症の低温抑制のための装置と方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 北村 修一郎
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-522851
公開番号(公開出願番号):特表2001-524345
出願日: 1998年12月01日
公開日(公表日): 2001年12月04日
要約:
【要約】血管の血管形成術後過形成症が、冷凍外科治療用バルーンカテーテル(10)を使用して治療される。前記バルーンカテーテルは、血管内の標的領域に位置決めされ、バルーン(18)が、液体窒素等の低温流体を膨張オリフィスを介してこのバルーン内に膨張させることによって膨らませられる。前記バルーンは、近端及び遠端部領域では冷却の度合いが低下して、血管の隣接する領域を過度の冷却から断熱する状態で、冷却が主としてバルーンの中央領域に於いて行われるように構成されている。
請求項(抜粋):
冷凍外科治療用カテーテルであって、以下を有する、 近端部と、遠端部と、それを貫通する主ルーメンとを備えるカテーテル本体、前記ルーメンは、その遠端部近くにジュール-トンプソンオリフィスを備える、そして 前記カテーテル本体の前記遠端部の前記ジュール-トンプソンオリフィス上に配設されたバルーン。
IPC (2件):
A61M 25/00 ,  A61B 18/02
FI (2件):
A61M 25/00 410 Z ,  A61B 17/36 310
Fターム (3件):
4C060JJ01 ,  4C060JJ02 ,  4C060MM25
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特公昭43-004715
  • 特公昭43-004715
  • 特公昭43-004715
全件表示

前のページに戻る