特許

J-GLOBAL ID：200903066635873686

超音波洗浄方法

発明者： 正木 広志 ,  妻木 伸夫 ,  佐原 輝隆 ,  北田 由光 ,  松本 洋一郎 ,  吉澤 晋
出願人/特許権者： 株式会社日立プラントテクノロジー ,  国立大学法人 東京大学
代理人 (1件)： 松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-028438
公開番号（公開出願番号）：特開2008-188563
出願日： 2007年02月07日
公開日（公表日）： 2008年08月21日
要約：

【課題】被洗浄物を効率よく洗浄できる超音波洗浄方法を提供する。【解決手段】溶存ガスが存在する洗浄液に超音波を照射して被洗浄物を洗浄する場合において、少なくとも0.2msec以上連続的に超音波を照射する工程と、少なくとも0.1msec以上超音波の照射を停止する工程とを所定周期で繰り返す。これにより、超音波の透過を阻害する粗大気泡の発生を防止でき、洗浄に寄与するラジカルを効率よく発生させて、被洗浄物を効率よく洗浄することができる。【選択図】 図6

請求項（抜粋）：

超音波を照射した洗浄液で被洗浄物を洗浄する超音波洗浄方法において、 少なくとも0.2msec以上連続的に超音波を照射する工程と、少なくとも0.1msec以上超音波の照射を停止する工程とを所定周期で繰り返し実行することを特徴とする超音波洗浄方法。

IPC (2件)：

B08B 3/12 ,  H01L 21/304

FI (3件)：

B08B3/12 Z ,  H01L21/304 643D ,  H01L21/304 648G

Fターム (11件)：

2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088MA16 ,  2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB14 ,  3B201BB22 ,  3B201BB83 ,  3B201CD41

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特許第3521393号公報
  

審査官引用 (2件)

• 特開昭61-015334
  
• 超音波洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-298104   出願人：国立大学法人東京大学, 日立プラント建設株式会社