めっき装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：熊谷隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-225308
公開番号（公開出願番号）：特開2000-319797
出願日： 1999年08月09日
公開日（公表日）： 2000年11月21日
要約：

【要約】【課題】めっき槽の深さ寸法を小さくでき、めっき液中の添加剤が酸化分解し異常に消耗したり、発生する酸素により被めっき基板の表面や該表面に形成された微細な孔や溝中にめっき欠陥が発生することなく、均一な膜厚の金属めっきができるめっき装置を提供すること。【解決手段】めっき槽を具備し、該めっき槽で被めっき基板のめっき面にめっき液を接触させて金属めっきを施すめっき装置において、めっき槽10は、めっき面を下向きにして配置した被めっき基板13とその下方に所定の間隔を設けて対向して配置された多孔板21との間に形成されためっき液室20と、該多孔板21の下方に形成された偏平なめっき液導入室22を具備し、めっき液Qを該めっき液導入室22に水平方向より流し込み、多孔板21の多孔21aを通して被めっき基板13のめっき面に垂直なめっき液Qの流れを形成してめっき液室20に導くように構成されている。

請求項（抜粋）：

めっき槽を具備し、該めっき槽で被めっき基板のめっき面にめっき液を接触させて金属めっきを施すめっき装置において、前記めっき槽は、めっき面を下向きにして配置した前記被めっき基板とその下方に所定の間隔を設けて対向して配置された多孔板との間に形成されためっき液室と、該多孔板の下方に形成された偏平なめっき液導入室を具備し、めっき液を該めっき液導入室に水平方向より流し込み、前記多孔板の多孔を通して前記被めっき基板のめっき面に垂直なめっき液の流れを形成して前記めっき液室に導くように構成されていることを特徴とするめっき装置。

IPC (4件)：

C25D 17/00 , C23C 18/38 , C25D 7/12 , H01L 21/288

FI (4件)：

C25D 17/00 B , C23C 18/38 , C25D 7/12 , H01L 21/288 E

Fターム (17件)：

4K022AA05 , 4K022AA41 , 4K022BA08 , 4K022DA01 , 4K022DB15 , 4K022DB17 , 4K022DB18 , 4K024AA09 , 4K024BA11 , 4K024BB12 , 4K024CB02 , 4K024CB13 , 4K024CB15 , 4K024GA16 , 4M104BB04 , 4M104DD52 , 4M104HH20

引用特許：

審査官引用 (2件)

基板上に物質層を堆積する方法およびめっきシステム
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-150548 出願人：モトローラ・インコーポレイテッド
特開平3-260085

前のページに戻る