特許

J-GLOBAL ID：200903066676446652

アライメントマーク及びそれを備えたフォトマスク

発明者： 中村 肇
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-308222
公開番号（公開出願番号）：特開平7-161618
出願日： 1993年12月08日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：

【要約】【目的】 エッチングを行ってもアライメントマークが変形しないようにする。【構成】 ウェハ上またはフォトマスク上に形成される位置合わせ用のアライメントマーク1において、アライメントマーク1は複数の矩形部からなることから構成する。

請求項（抜粋）：

ウェハ上またはフォトマスク上に形成される位置合わせ用のアライメントマークにおいて、前記アライメントマークは複数の矩形部からなることを特徴とするアライメントマーク。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 9/00

FI (3件)：

H01L 21/30 502 M ,  H01L 21/30 520 A ,  H01L 21/30 522 A

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭61-210630
  
• 半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-282140   出願人：三菱電機株式会社