特許
J-GLOBAL ID：200903066700579456
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-240876
公開番号（公開出願番号）：特開平9-063793
出願日： 1995年08月25日
公開日（公表日）： 1997年03月07日
要約：
【要約】【課題】 アンテナ部材の熱的損傷を避けるようにしたプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 被処理体Wを載置する載置台6を内部に設けると共にマイクロ波導入口34を形成した処理容器4と、プラズマ発生用のマイクロ波を発生するマイクロ波発生器50と、このマイクロ波発生器にて発生したマイクロ波を前記処理容器へ導くための導波管52,58と、同心円状或いは渦巻き状に形成された多数のスリット38を有して前記導波管に接続されて前記載置台と対向するように前記マイクロ波導入口に設けられた平面アンテナ部材36と、この平面アンテナ部材を覆って前記処理容器内を気密に保持するアンテナ覆い部材42とを備えるように構成する。これにより、アンテナ部材を大気放熱可能とする。
請求項（抜粋）：
被処理体を載置する載置台を内部に設けると共にマイクロ波導入口を形成した処理容器と、プラズマ発生用のマイクロ波を発生するマイクロ波発生器と、このマイクロ波発生器にて発生したマイクロ波を前記処理容器へ導くための導波管と、同心円状或いは渦巻き状に形成された多数のスリットを有して前記導波管に接続されて前記載置台と対向するように前記マイクロ波導入口に設けられた平面アンテナ部材と、この平面アンテナ部材を覆って前記処理容器内を気密に保持するアンテナ覆い部材とを備えるように構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H05H 1/46
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/3065
H05H 1/46 B
, H05H 1/46 L
, C23C 16/50
, C23F 4/00 D
, H01L 21/302 B
審査官引用 (22件)
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特開平3-191073
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特開平3-191073
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特開平1-184923
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特開平1-184923
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特開平3-068771
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特開平3-068771
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特開昭50-036379
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特開昭50-036379
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マイクロ波誘導プラズマへの原料供給方法及び装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平5-282245
出願人：三菱重工業株式会社
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特開平3-232981
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特開平3-232981
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マイクロ波放電反応装置及び電極装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平2-400904
出願人：佐藤徳芳, 飯塚哲, 日電アネルバ株式会社
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特開平3-191073
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特開平1-184923
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特開平3-068771
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特開昭50-036379
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特開平3-232981
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特開平3-191073
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特開平1-184923
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特開平3-068771
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特開昭50-036379
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特開平3-232981
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