特許
J-GLOBAL ID：200903066727408300
洗浄装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
志賀 正武 (外9名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-287067
公開番号（公開出願番号）：特開2000-107706
出願日： 1998年10月08日
公開日（公表日）： 2000年04月18日
要約：
【要約】【課題】 基板全体にわたって均一な洗浄効果が得られるとともに、異なる洗浄方法による洗浄を1台の装置で実施できる合理的な洗浄装置を提供する。【解決手段】 基板Wを保持するステージ3と、両端が支持された状態で基板Wに対して並列配置された複数の洗浄用ノズルを有し、複数のノズルの各々が基板Wを異なる洗浄方法により洗浄する洗浄用ノズル4、5、6、7と、洗浄用ノズルの各々を基板Wとの間隔を一定に保ちながら順次水平移動させることによって基板Wの被洗浄面全域を洗浄するラックベース16、スライダ18等からなるノズル移動手段とを有している。
請求項（抜粋）：
被洗浄基板を保持する基板保持手段と、両端が支持された状態で前記被洗浄基板に対して対向かつ並列配置された複数の洗浄用ノズルであって該複数のノズルの各々が前記被洗浄基板を複数種の異なる洗浄方法により洗浄処理するいずれかの機能を有する洗浄用ノズルと、該洗浄用ノズルの各々を前記被洗浄基板との間隔を一定に保ちながら順次前記並列方向に移動させることにより前記被洗浄基板の被洗浄面全域を洗浄処理するノズル移動手段とを有することを特徴とする洗浄装置。
IPC (5件)：
B08B 3/02
, B08B 3/12
, H01L 21/304 643
, H01L 21/304
, H01L 21/304 645
B08B 3/02 D
, B08B 3/12 A
, H01L 21/304 643 C
, H01L 21/304 643 D
, H01L 21/304 645 D
3B201AA02
, 3B201AB08
, 3B201AB34
, 3B201AB47
, 3B201BA13
, 3B201BB24
, 3B201BB54
, 3B201BB71
, 3B201BB83
, 3B201BB93
, 3B201BB98
, 3B201BC01
, 3B201CC01
, 3B201CC13
, 3B201CD11
, 3B201CD22
, 3B201CD34
