特許
J-GLOBAL ID：200903066758281694
被検物の欠点検査方法および検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩壁 冬樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-115543
公開番号（公開出願番号）：特開2000-018932
出願日： 1999年04月22日
公開日（公表日）： 2000年01月21日
要約：
【要約】【課題】 微小凹凸をほこり等と区別して検査する。【解決手段】 回転する光源1からのストライプパターン光は被検物2の表面で反射され、反射像が連続的に演算装置4に入力される。演算装置4は、複数枚の画像における同一位置の画素に関する最大値や最小値を評価値として、位置が異なる各画素について評価値を比較する。
請求項（抜粋）：
被検物表面を反射した反射光または被検物を透過した透過光を受光し、受光して得られた画像を用いて被検物の欠点を検査する被検物の欠点検査方法であって、互いに位相のみが異なる明暗パターンを有する複数の光を前記被検物に照射し、前記複数の光の照射にもとづいて反射光または透過光を受光して複数の画像を得て、前記複数の画像またはそれらの画像に微分処理が施された各画像における前記被検物の同一位置の画素に関するそれぞれのデータにもとづいて評価値を決め、位置が異なる各画素について評価値を比較して前記被検物の微小欠点を検査することを特徴とする被検物の欠点検査方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01B 11/30 A
, G01N 21/88 650
