特許
J-GLOBAL ID:200903066811818301
半導体装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
植本 雅治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-298980
公開番号(公開出願番号):特開平7-131003
出願日: 1993年11月04日
公開日(公表日): 1995年05月19日
要約:
【要約】【目的】 微細化の利点を損なわずに素子の性能,特性を向上させることができる。【構成】 ソース側のコンタクトホール4aの径がドレイン側のコンタクトホール4bの径よりも大きくなっている。このように、ソース側のコンタクトホール4aの径,すなわち総面積を大きくすることにより、ソース側のコンタクト抵抗を抑え、素子の性能,特性を向上させる。
請求項(抜粋):
電界効果トランジスタに適用可能な半導体装置であって、電界効果トランジスタのソース側の寄生抵抗および/または外部抵抗が、ドレイン側の寄生抵抗および/または外部抵抗よりも小さなものとなっていることを特徴とする半導体装置。
IPC (2件):
引用特許:
審査官引用 (29件)
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特開昭55-044748
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特開昭61-059867
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特開平4-260352
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特開昭55-091175
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特開平1-137650
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特開昭63-240070
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特開昭63-070553
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特開平4-196126
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特開平3-104169
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特開昭59-205749
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特開平2-096366
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特開平2-214123
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特開平4-186732
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特開平2-027732
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半導体集積回路装置の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-314305
出願人:株式会社日立製作所
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特開昭55-044748
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特開昭61-059867
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特開平4-260352
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特開昭55-091175
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特開平1-137650
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特開昭63-240070
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特開昭63-070553
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特開平4-196126
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特開平3-104169
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特開昭59-205749
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特開平2-096366
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特開平2-214123
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特開平4-186732
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特開平2-027732
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