特許
J-GLOBAL ID:200903066824760892

エッチング剤及びエッチング方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井上 俊夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-242228
公開番号(公開出願番号):特開平8-083792
出願日: 1994年09月09日
公開日(公表日): 1996年03月26日
要約:
【要約】【目的】 シリコン酸化膜(SiO2 膜)に対する窒化硅素膜(Si3 N4 膜)のエッチングにおいて、任意の選択性が得られるとともに、高いエッチングレートを有するエッチング剤を提供すること。【構成】 シリコン酸化膜に対して窒化硅素膜をエッチングする溶液であり、前記溶液は、リン酸溶液中に1重量%以下のフッ化水素酸、あるいは、フッ化アンモニウムを添加したもので構成する。
請求項(抜粋):
シリコン酸化膜の表面に形成された窒化硅素膜をエッチングする溶液であり、前記溶液は、リン酸溶液中に1重量%以下のフッ化水素酸を添加したものであることを特徴とするエッチング剤。
IPC (2件):
H01L 21/308 ,  H01L 21/306
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開昭60-137024
  • エッチング液の精製方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-253672   出願人:日曹エンジニアリング株式会社

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