特許

J-GLOBAL ID：200903066838294363

ドライエッチング装置

発明者： 三五 利明
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 菅野 中
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-316186
公開番号（公開出願番号）：特開平8-172075
出願日： 1994年12月20日
公開日（公表日）： 1996年07月02日
要約：

【要約】【目的】 静電吸着ステージを有するドライエッチング装置において、エッチング処理終了後にウェハーを押し上げ、ステージから脱離する際、ウェハーの位置がずれるのを防ぐ。【構成】 エッチング処理室12内の静電吸着ステージ4に吸着されたウェハー7の外周部にウェハーガイド6で備える。ウェハーガイド6はエッチング処理中に静電吸着ステージ4内に位置し、エッチング処理終了後のウェハー7を静電吸着ステージ4から脱離する前にウェハー7の外周部に上昇し、ウェハー7の周縁をガイドする。これにより、ウェハー7が静電吸着ステージ4を脱離する際に生じるウェハー7の位置ズレを防止することができる。

請求項（抜粋）：

静電吸着ステージと、リフト部と、ウェハーガイドとを有し、処理室内の対をなす一方の電極からガスを導入しつつ電極の対間に高周波電力を印加してプラズマを発生させ、該プラズマによりウェハーをエッチング処理するドライエッチング装置であって、静電吸着ステージは、対をなす他方の電極側に設けられ、静電力によりウェハーを吸着保持するものであり、リフト部は、昇降可能に設けられ、前記静電吸着ステージと、その上方のウェハー搬出入位置との間にウェハーの裏面を支えて昇降し、ウェハーを静電吸着ステージ上に載置し、或いはウェハーを静電吸着ステージから離脱させてウェハー搬出入位置に押し上げるものであり、ウェハーガイドは、前記静電吸着ステージ上のウェハー周縁の要所に配置され、前記リフト部にて押し上げられるウェハーの周縁をガイドするものであることを特徴とするドライエッチング装置。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/68

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 被処理体の離脱方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-139153   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 特開平2-159744