特許

J-GLOBAL ID：200903066844590756

レチクルチャック、レチクル、レチクルの吸着構造および露光装置

発明者： 大久保 至晴
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (2件)： 古谷 史旺 ,  森 俊秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-003465
公開番号（公開出願番号）：特開2008-171998
出願日： 2007年01月11日
公開日（公表日）： 2008年07月24日
要約：

【課題】 本発明は、露光装置内においてレチクルの保持に使用されるレチクルチャック、レチクル、レチクルの吸着構造および露光装置に関し、レチクルの着脱を迅速に行うことを目的とする。【解決手段】 吸着面にレチクルを吸着するレチクルチャックにおいて、前記レチクルに埋設される永久磁石を吸着する電磁石を有することを特徴とする。レチクルチャックの吸着面に吸着されるレチクルにおいて、前記レチクルチャックに埋設される電磁石に吸着される永久磁石を有することを特徴とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

吸着面にレチクルを吸着するレチクルチャックにおいて、 前記レチクルに埋設される永久磁石を吸着する電磁石を有することを特徴とするレチクルチャック。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/683

FI (3件)：

H01L21/30 503D ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/68 R

Fターム (9件)：

5F031CA07 ,  5F031HA16 ,  5F031HA80 ,  5F031MA27 ,  5F031PA30 ,  5F046CB17 ,  5F046CC02 ,  5F046CC09 ,  5F046DA06

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 静電チャック及びそのチャックからのシリコンウェハ 離脱方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-317064   出願人：日本セメント株式会社