特許
J-GLOBAL ID：200903066884403622
分子量分布の狭いスチレン系共重合体およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-241893
公開番号（公開出願番号）：特開平9-087309
出願日： 1995年09月20日
公開日（公表日）： 1997年03月31日
要約：
【要約】【課題】各種成形体及びそれらへの添加剤、各種情報記録材、各種コーティング材などとして有用な分子量分布の狭いスチレン系共重合体を得ること。【解決手段】以下の要件を満足することを特徴とするスチレン系共重合体および安定なニトロオキサイド系ラジカル化合物とラジカル重合用開始剤とから得られる化合物存在下で、スチレンおよび他の不飽和単量体をラジカル重合して前記スチレン系共重合体を得る方法。(1) ゲルパーミェーションクロマトグラフ法(以下GPCという)により測定されるポリスチレン換算分子量において、重量平均分子量が3000〜100000の範囲である。(2) GPCにより測定されるポリスチレン換算分子量において、重量平均分子量/数平均分子量が1.1 〜1.3 の範囲である。(3) 共重合体中に、スチレン及びスチレン誘導体を30〜99モル%およびその他の不飽和単量体の中から選ばれる1種または2種以上を1〜70モル%含む。
請求項（抜粋）：
以下の要件を満足することを特徴とするスチレン系共重合体。(1) ゲルパーミェーションクロマトグラフ法(以下GPCという)により測定されるポリスチレン換算分子量において、重量平均分子量が3000〜100000の範囲である。(2) GPCにより測定されるポリスチレン換算分子量において、重量平均分子量/数平均分子量が1.1 〜1.3 の範囲である。(3) 共重合体中に、スチレン及びスチレン誘導体を30〜99モル%およびその他の不飽和単量体の中から選ばれる1種または2種以上を1〜70モル%含む。
IPC (2件)：
C08F 2/38 MCN
, C08F 12/06
C08F 2/38 MCN
, C08F 12/06
