特許
J-GLOBAL ID：200903066920697549

印刷版用支持体及びその製造方法並びに印刷版及びその製造方法

発明者：
森 孝博

森 孝博 について


出願人/特許権者：
コニカ株式会社

コニカ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-276607
公開番号（公開出願番号）：特開2001-096937
出願日： 1999年09月29日
公開日（公表日）： 2001年04月10日
要約：
【要約】【課題】 印刷適性(水量ラチチュード)、地汚れ及びブランケット汚れが改善される印刷版用支持体及び印刷版とそれらの製造方法を提供する。改善された感度を有する熱溶融性素材(ワックスなど)を含有する画像記録層を使用した印刷版とその製造方法を提供する。【解決手段】 ?@基材上に親水性層を有する印刷版用支持体において、該親水性層が、平均で0.2〜50μmのピッチで平均膜厚よりも膜厚が薄い領域(ピット形状等)を有する。?A基材上に親水性層を形成した後に、該親水性層を部分的に除去することで、上記領域を形成する印刷版用支持体の製造方法。?B基材上に平均粒径0.2〜10μmの粒子を含有する親水性層を形成した後に、該親水性層の一部を除去することによって該親水性層表面にピット形状を形成する。?C基材上に、画像記録層と親水性層を有する印刷版において、該親水性層が上記領域を有する。
請求項（抜粋）：
基材上に親水性層を有する印刷版用支持体において、該親水性層が、平均で0.2〜50μmのピッチで平均膜厚よりも膜厚が薄い領域を有することを特徴とする印刷版用支持体。
IPC (8件)：
B41N 1/14 ,  B41C 1/055 501 ,  B41C 1/10 ,  B41N 3/03 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/11 501
FI (8件)：
B41N 1/14 ,  B41C 1/055 501 ,  B41C 1/10 ,  B41N 3/03 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/11 501
Fターム (59件)：
2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AB03 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025CC20 ,  2H025DA02 ,  2H025DA36 ,  2H025EA05 ,  2H025FA01 ,  2H025FA03 ,  2H084AA14 ,  2H084AA38 ,  2H084CC05 ,  2H096AA07 ,  2H096AA08 ,  2H096BA16 ,  2H096BA20 ,  2H096CA20 ,  2H096DA10 ,  2H096EA04 ,  2H096JA02 ,  2H096JA03 ,  2H114AA04 ,  2H114AA10 ,  2H114AA24 ,  2H114AA27 ,  2H114AA28 ,  2H114AA30 ,  2H114BA01 ,  2H114BA05 ,  2H114BA10 ,  2H114DA03 ,  2H114DA05 ,  2H114DA14 ,  2H114DA15 ,  2H114DA42 ,  2H114DA43 ,  2H114DA45 ,  2H114DA46 ,  2H114DA51 ,  2H114DA59 ,  2H114DA61 ,  2H114DA62 ,  2H114DA73 ,  2H114DA75 ,  2H114EA02 ,  2H114EA04 ,  2H114FA01 ,  2H114FA11 ,  2H114FA13 ,  2H114FA18 ,  2H114GA01 ,  2H114GA02 ,  2H114GA08 ,  2H114GA09 ,  2H114GA34 ,  2H114GA38
引用特許：
審査官引用 (4件)
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